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創新點:
1、首創智能雜散光測量和校正技術(已申請發明專利)。有效改善了原子吸收光譜儀的光學精度、線性范圍,提高了背景校正能力。
2、少見光學降噪技術(已申請發明專利),結合光學元件紫外增強技術,有效改善了儀器光學性能和線性范圍。
3、首創間隙控燈技術(已申請發明專利)。使普通空心陰級燈用于自吸背景校正成為可能,燈的使用壽命延長十倍以上,而成本僅為專用自吸燈的十幾分之一,大大降低了使用成本。
4、首創“汞燈-試劑”梯度測量技術(已申請發明專利)。提高儀器檢測的速度及性能
5、元素燈多維自動調節系統,氣路、電子電器功能化模塊設計,免調節氘燈支架、指引行業新潮的外觀設計等眾多技術創新和技術革新,均已申請新穎實用技術專利和外觀設計專利。使用、維護更加方便,外型指引時尚,在保證檢測性能的同時,增加審美享受。
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參數指標
光學系統 |
單光束,全反射消色差光學系統,保證各種元素在不同波長處樣品通道與參考通道兩條光束的統一性和理想光學位置,使光束成像和信噪比處于理想水平,換燈后無需調節聚焦點的位置,大大提高測試結果的準確性、可靠性及工作效率。 超強的抗原子化器光輻射能力,可有效消除火焰背景發射和高溫下石墨管強烈的光輻射。 波長范圍:190-900nm; 全波段波長準確度±0.20nm,波長重復性:0.05nm; 光譜帶寬0.1、0.2、0.7、1.4 nm自動切換; 分辨能力:可分辨Mn三線(279.5nm和279.8nm線峰谷≤30%)。 |
光度性能 |
讀數方式:透過率、吸光度、濃度; 光度范圍:0-125%T,-0.1-3.000A; 靜態基線漂移≤±0.003A; 動態基線漂移≤±0.003A。 |
雙背景校正 |
高性能自吸背景校正: 1Abs時>100倍,國內領先; 2Abs時>80倍,國際領先; 高性能氘燈背景校正:>50倍以上校正能力(1Abs)時, 校正能力可延伸到500nm以上。 |
燈架系統 | 國內首創八燈位垂直安裝,自動換燈,兩維自動微調對光燈架系統。 |
檢測器 | 高靈敏度寬光譜范圍低噪聲光電倍增管 |
火焰分析 |
特征濃度Cu≤0.02ug/ml/1%; 檢出限≤0.005ug/ml; 精密度RSD(Cu)≤0.5%; 10cm全鈦燃燒器,高度自動設定,水平位置免調; 高效玻璃霧化器 聚四氟乙烯霧化室。 安全控制:燃氣泄露、空氣欠壓、異常滅火、未水封自動 報警和自動安全保護;霧化室自動卸壓,空氣常開。 |
石墨爐分析 |
特征量Cd≤0.4×10-12g; 檢出限Cd≤0.8×10-12g; 精密度RSD:自動進樣Cd≤1%,手動進樣Cd≤2 %; 石墨爐升溫范圍:室溫-3000℃; 大功率升溫范圍:1500℃-3000℃; 最大升溫速率2000℃/S; 原子化升溫方式:光控升溫、時控升溫、一般升溫; 石墨管外保護氣流量:1L/min; 石墨管內保護氣流量:可設停、開(0-50ml/min微流量或300-400ml/min固定流量); 石墨爐原子化器位置水平、垂直、轉位全部免調; 石墨爐源內置,火焰、石墨一體機; 安全控制:冷卻水流量、保護氣壓力、爐體溫度、石墨管 安裝自動報警和安全保護。 良好的石墨爐自動進樣技術,樣品杯位數≥80個。 |
數據處理 |
測量方式:火焰法、石墨爐法、氫化物發生-原子吸收法,火焰發射法; 濃度計算方式:標準曲線法(6種線性、非線性擬合方式),標準加入法,內插法; 重復測量次數:1-30次,計算和給出吸光度和濃度的平均值、標準偏差和相對標準偏差; 報表打印:參數打印,數據結果打印,圖形打印。 含RS232通訊接口,計算機外接。 |
高級的 自動化功能 |
8燈架轉塔自動切換,自動二維微調 自動設定燃燒器高度,燃燒器水平位置免調 全自動波長掃描與尋峰 自動切換光譜帶寬 自動設定燈電流 自動調整負高壓和能量平衡 自動點火 D2扣背景時自動光學平衡 一鍵自動完成儀器基本條件設置和調節 石墨爐法自動基線漂移校正;火焰法“自動校零” 自動報警及安全保護 |
配置清單
主機 |
1 主機(火焰、石墨爐),完全操作的SPWin-AAS軟件。 Windows 2000/XP 操作環境,每個元素分析條件均有默認值,軟件完全控制儀器。 |
選配附件 |
2 石墨爐自動進樣器1臺(樣品杯數≥80個)。 樣品特別多時可以選配自動進樣器) 3 空氣壓縮機1臺。 4 元素燈。 5 石墨管(10只/盒),(已標配10只) 6 氬氣+瓶+表1套。 7 高純乙炔+瓶+表1套。 8 原裝品牌計算機1臺。 9 打印機1臺。 10 穩壓電源 1臺。 11 冷卻循環水機 注:6-9建議在當地配備。 |
三、售后服務
上海總部設有售后服務支持中心,全國各地有售后服務網點,對故障情況兩小時響應,如需上門服務,24小時內派人上門,保修期壹年,終身維修。
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